Ретинолова маска-плівка CEF Lab 3R Ceramide Retinol Peel Off Mask — інноваційна маска-коректор для усунення недосконалостей шкіри. Завдяки інкапсульованому ретинолу, що поступово вивільняється, ця маска значно покращує текстуру шкіри, зменшує глибину зморшок і тонких ліній, підвищує пружність та еластичність шкіри. Маска активно зволожує глибокі шари шкіри, відновлює матрицю епідермісу та забезпечує захист від вільних радикалів. Вона також сприяє освітленню шкіри, вирівнює її рельєф і корегує прояви акне та постакне.
Основні компоненти:
- Cylasphere™ Retinol: інкапсульований ретинол у мікросферах агару, що дозволяє ретельно контролювати процес його вивільнення. Ця технологія забезпечує мінімізацію подразнень, сприяє зменшенню пігментних плям, зморшок і покращує загальну еластичність та гладкість шкіри.
- Stabilized Retinal: потужна форма вітаміну А з антивіковим потенціалом наступного покоління, яка діє до 11 разів швидше за класичні форми ретинолу, забезпечуючи швидке і помітне поліпшення стану шкіри.
Основні переваги:
- Зменшення зморшок і ліній: Сприяє зменшенню глибини і кількості зморшок.
- Підвищення пружності: Підвищує еластичність та пружність шкіри, роблячи її більш підтягнутою.
- Корекція рельєфу: Вирівнює рельєф шкіри та усуває її нерівності.
- Зволоження та живлення: Інтенсивно зволожує глибокі шари шкіри, сприяючи її регенерації.
- Антиоксидантний захист: Захищає шкіру від шкідливого впливу вільних радикалів.
- Освітлення та корекція: Освітлює шкіру, корегує прояви акне та постакне.
Спосіб застосування: нанести маску тонким шаром на обличчя, крім зони навколо очей, залишити на 15 хвилин, зняти маску одним шаром.
